[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710388642.7 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN107170860B 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 武艳萍 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省金华市义*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底以及依次层叠在衬底上的缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,外延片还包括应力释放层,应力释放层为氮化镓层,应力释放层层叠在成核层中,或者应力释放层层叠在成核层和未掺杂氮化镓层之间,或者应力释放层层叠在未掺杂氮化镓层中,或者应力释放层叠在未掺杂氮化镓层和N型氮化镓层之间。本发明通过在成核层和未掺杂氮化镓层之间插入应力释放层,可以对衬底和氮化镓材料之间晶格失配产生的应力进行释放,避免应力影响外延片的翘曲度,衬底的表面平整,多量子阱层受热均匀,外延片发光波长的均匀性提高。
搜索关键词: 一种 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,其特征在于,所述外延片还包括应力释放层,所述应力释放层为氮化镓层,所述应力释放层层叠在所述成核层中,或者所述应力释放层层叠在所述成核层和所述未掺杂氮化镓层之间,或者所述应力释放层层叠在所述未掺杂氮化镓层中,或者所述应力释放层叠在所述未掺杂氮化镓层和所述N型氮化镓层之间。
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