[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制备方法有效
申请号: | 201710388642.7 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN107170860B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 武艳萍 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底以及依次层叠在衬底上的缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,外延片还包括应力释放层,应力释放层为氮化镓层,应力释放层层叠在成核层中,或者应力释放层层叠在成核层和未掺杂氮化镓层之间,或者应力释放层层叠在未掺杂氮化镓层中,或者应力释放层叠在未掺杂氮化镓层和N型氮化镓层之间。本发明通过在成核层和未掺杂氮化镓层之间插入应力释放层,可以对衬底和氮化镓材料之间晶格失配产生的应力进行释放,避免应力影响外延片的翘曲度,衬底的表面平整,多量子阱层受热均匀,外延片发光波长的均匀性提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱层和P型氮化镓层,其特征在于,所述外延片还包括应力释放层,所述应力释放层为氮化镓层,所述应力释放层层叠在所述成核层中,或者所述应力释放层层叠在所述成核层和所述未掺杂氮化镓层之间,或者所述应力释放层层叠在所述未掺杂氮化镓层中,或者所述应力释放层叠在所述未掺杂氮化镓层和所述N型氮化镓层之间。
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