[发明专利]退火处理装置以及退火处理方法在审
申请号: | 201710388817.4 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN107452832A | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 山口昇;西桥勉;铃木英夫;酒田现示;田中美和 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 张路,王琦 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种退火处理装置以及退火处理方法。该退火处理装置为晶系太阳能电池用的退火处理装置,包括加热室,具有用于对杂质掺杂的基板进行热处理的内部空间;以及前室,被配置为经由闸式阀与所述加热室的内部空间连通。所述加热室具备盒基座,放置盒支架,所述盒支架为在所述加热室的内部空间中,使多个以所述基板的表面和背面暴露的状态来保持所述基板的外周部的盒,在以规定的距离分隔开的状态下,多段重叠而成;以及气体供给单元,用于热处理。所述气体供给单元具有气体供给口,所述气体供给口朝向所述基板之间分隔开的空间且针对每个该空间为一个以上。 | ||
搜索关键词: | 退火 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种退火处理装置,为晶系太阳能电池用的退火处理装置,包括:加热室,具有用于对杂质掺杂的基板进行热处理的内部空间;以及前室,被配置为经由闸式阀与所述加热室的内部空间连通,所述加热室具备:盒基座,放置盒支架,所述盒支架为在所述加热室的内部空间中,使多个以所述基板的表面和背面暴露的状态来保持所述基板的外周部的盒,在以规定的距离分隔开的状态下,多段重叠而成;以及气体供给单元,用于热处理,所述气体供给单元具有气体供给口,所述气体供给口朝向所述基板之间分隔开的空间且针对每个该空间为一个以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710388817.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的