[发明专利]被增强免受前侧攻击的集成电路芯片在审
申请号: | 201710391255.9 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN107919329A | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | S·珀蒂迪迪埃;M·利萨特 | 申请(专利权)人: | 意法半导体(克洛尔2)公司;意法半导体(鲁塞)公司 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00;H01L23/538;H01L21/768 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华,崔卿虎 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了被增强免受前侧攻击的集成电路芯片。一种集成电路芯片,该集成电路芯片包括互连堆叠,该互连堆叠具有形成于其中的空腔,该空腔至少填充有一种第一材料,该第一材料的抛光选择性和/或蚀刻选择性与形成该互连堆叠的材料的抛光选择性和/或蚀刻选择性相差超过10%。 | ||
搜索关键词: | 增强 免受 攻击 集成电路 芯片 | ||
【主权项】:
一种集成电路芯片,所述集成电路芯片包括互连层级堆叠,每个互连层级由具有至少一个金属喷镀(2)形成于其中的绝缘体层(6)形成,所述堆叠中形成有空腔(12),所述空腔至少填充有第一材料(14),所述第一材料的抛光和/或蚀刻速度与形成所述绝缘体层(6)的材料的抛光和/或蚀刻速度相差至少10%。
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