[发明专利]一种跟踪X光源焦点位置的装置、系统及方法有效
| 申请号： | 201710398128.1 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107095690B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 郭颂超 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种跟踪X光源焦点位置的装置、系统及方法。该装置包括：X射线接收器以及遮挡结构；所述遮挡结构与所述X射线接收器之间间隔预设距离；其中，所述X射线接收器，包括沿第一方向设置的至少两个X射线接收区域，以及沿第二方向设置的至少两个X射线接收区域；所述第一方向垂直于所述第二方向。本发明实施例的技术方案，实现了对X光源焦点位置的准确跟踪，节约了跟踪成本，提高了跟踪效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 跟踪 光源 焦点 位置 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种跟踪X光源焦点位置的装置，其特征在于，包括：X射线接收器以及遮挡结构；所述遮挡结构与所述X射线接收器之间间隔预设距离；其中，所述X射线接收器，包括沿第一方向设置的至少两个X射线接收区域，以及沿第二方向设置的至少两个X射线接收区域；所述第一方向垂直于所述第二方向。
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