[发明专利]一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法有效
申请号: | 201710399984.9 | 申请日: | 2017-05-31 |
公开(公告)号: | CN107299318B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 马日红;毕小伟;梁德春;马跃飞;刘福民 | 申请(专利权)人: | 北京航天控制仪器研究所 |
主分类号: | C23C14/18 | 分类号: | C23C14/18;C23C14/35;C23C14/02;C03C17/40 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 马全亮 |
地址: | 100854 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法,特别是在石英晶体上镀制耐BOE腐蚀的金属掩膜层的制备方法。本发明具体包括清洗步骤和镀膜步骤。本发明的显著效果是:①实现了用单层Cr/Au掩膜层进行耐BOE腐蚀工艺;②解决了现有Cr/Au掩膜层腐蚀后出现表面钻蚀,鼓包,甚至脱落等问题;③单层Cr/Au掩膜层转移光刻图形精度高,可以控制在1um以内;④制备工艺过程简单,易于控制,制备成本低廉,适合批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 boe 腐蚀 金属 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种耐BOE腐蚀的金属掩膜制备方法,步骤如下:步骤a:对待镀膜的目标物进行清洗;步骤b;对清洗之后的目标物进行镀膜处理;其特征在于:进行镀膜处理时,采用单层Cr/Au掩膜;所述步骤a具体为:将目标物置于浓硫酸和双氧水混合清洗液中浸泡;所述混合清洗液温度为110℃~130℃,浸泡时间15~30min;步骤b具体包括如下步骤:(1)将清洗之后的目标物放入溅射镀膜设备中,进行抽真空处理;(2)采用磁控溅射的方式镀Cr膜;溅射气体为N2和Ar的混合气,N2和Ar的混合气中N2所占体积比为40%~60%;(3)采用磁控溅射的方式镀Au膜;(4)对镀膜之后的目标物进行自然冷却。
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