[发明专利]单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片的工艺在审
申请号: | 201710402195.6 | 申请日: | 2017-06-01 |
公开(公告)号: | CN108972919A | 公开(公告)日: | 2018-12-11 |
发明(设计)人: | 张进 | 申请(专利权)人: | 江苏拓正茂源新能源有限公司 |
主分类号: | B28D5/00 | 分类号: | B28D5/00;B28D5/02;B28D5/04;B24B1/00;B24B9/06 |
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地址: | 221600 江苏省徐州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片的工艺,主要包括以下流程:单晶生长→切断→外径滚磨→端面磨削、抛光→切片→倒角→研磨→腐蚀→抛光→清洗→包装。本发明单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片的工艺简单,所需设备要求低,成本低,可提高加工效率。 | ||
搜索关键词: | 单晶硅 单晶硅棒 抛光硅片 抛光 加工 单晶生长 端面磨削 加工效率 设备要求 研磨 切片 倒角 滚磨 清洗 腐蚀 | ||
【主权项】:
1.一种单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片的工艺,其特征在于:所述的工艺包括以下步骤:切断切除单晶硅棒的头部、尾部,将单晶硅棒切成的长度;外径磨削采用外圆磨床对切断后的单晶硅进行外径滚磨;端面磨削采用数控单晶硅端面磨床对所述单晶硅进行端面磨削;切片将所述磨削后的单晶硅棒切成预设几何尺寸的薄晶片;倒角采用倒角机将切割成的晶片税利边修整成圆弧形,防止晶片边缘破裂及晶格缺陷产生,增加磊晶层及光阻层的平坦度;研磨采用双面研磨机对倒角后的单晶硅晶片进行研磨;所述研磨采用的原料包括:研磨浆料和滑浮液;腐蚀采用化学腐蚀去除晶片表面受加工应力而形成的损伤层;抛光采用抛光机对腐蚀处理后的所述单晶硅片表面进行抛光;清洗采用RCA湿式化学洗净方法对所述抛光后的单晶硅片进行清洗。
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