[发明专利]用于生产光学元件的方法有效
申请号: | 201710408133.6 | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN107462941B | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | C.贝德;C.扎切克;E.加贝尔;D.托诺瓦;M.孙德曼 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司医疗技术股份公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/11 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢江;杜荔南 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提出了用于生产光学元件的方法,该光学元件包括主体,该主体带有第一侧表面和至少一个第二侧表面,该第一侧表面具有第一光学涂层,该至少一个第二侧表面并非平面平行于该第一侧表面并且具有第二光学涂层,该方法包括以下步骤:‑确定该第一侧表面的该第一光学涂层在该光学元件中引起的应力;‑确定对抗应力,从而使得在该光学元件中引起的合成总应力尽可能小;‑在考虑所确定的对抗应力和这个第二光学涂层的光学参数的同时确定该第二光学涂层;‑将该第一光学涂层涂覆在该第一侧表面上;‑将该第二光学涂层涂覆在该至少一个第二侧表面上。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产 光学 元件 方法 | ||
【主权项】:
用于生产光学元件的方法,该光学元件包括主体,该主体带有第一侧表面和至少一个第二侧表面,该第一侧表面具有第一光学涂层,该至少一个第二侧表面并非平面平行于该第一侧表面并且具有第二光学涂层,该方法包括以下步骤:‑ 确定该第一侧表面的该第一光学涂层在该光学元件中引起的应力;‑ 确定对抗应力,从而使得在该光学元件中引起的合成总应力尽可能小;‑ 在考虑所确定的对抗应力和这个第二光学涂层的光学参数的同时确定该第二光学涂层;‑ 将该第一光学涂层涂覆在该第一侧表面上;‑ 将该第二光学涂层涂覆在该至少一个第二侧表面上。
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