[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 201710418842.2 | 申请日: | 2017-06-06 |
公开(公告)号: | CN107065290B | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 魏雄周;黎敏;熊强;刘超;庞家齐;万彬;孙红雨 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示器制备技术领域,公开了一种彩膜基板及其制备方法和显示面板,用以提高彩膜基板的制备效率,进而提高显示面板的制备效率。彩膜基板的制备方法,包括:提供一衬底基板;在衬底基板上形成黑色矩阵层和多个第一子像素单元,其中黑色矩阵层和多个第一子像素单元采用相同材料的光刻胶制备而成,光刻胶的材料包括不可逆温变颜料,光刻胶受热后变成黑色,光刻胶未变色前的颜色与第一子像素单元的颜色相同。 | ||
搜索关键词: | 制备 彩膜基板 光刻胶 子像素单元 显示面板 黑色矩阵层 衬底基板 显示器制备 温变颜料 受热 不可逆 变色 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制备方法,包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上形成黑色矩阵层和多个第一子像素单元,其特征在于,所述黑色矩阵层和多个所述第一子像素单元采用相同材料的光刻胶制备而成,所述光刻胶的材料包括不可逆温变颜料,所述光刻胶受热后变成黑色,所述光刻胶未变色前的颜色与所述第一子像素单元的颜色相同。
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