[发明专利]电感耦合线圈和工艺腔室有效
| 申请号： | 201710426975.4 | 申请日： | 2017-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN109036817B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 刘海鹰 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01F38/14 | 分类号： | H01F38/14;H01F27/28;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电感耦合线圈和工艺腔室。所述电感耦合线圈用于将射频能量通过介质窗耦合到工艺腔室内，所述线圈包括至少一个线圈绕组，所述线圈绕组包括至少两个线圈分支，所述至少两个线圈分支分别位于具有预设高度差的不同的水平面内，且通过线圈过渡段相连；其中，所述电感耦合线圈的输入端和输出端位于与所述介质窗距离较远的所述线圈分支上。该结构的电感耦合线圈通入射频源时，能够改善耦合到工艺腔室内的电场强度的分布，从而能够改善等离子体分布的均匀性，提高等离子体刻蚀晶片良率，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 线圈 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合线圈，用于将射频能量通过介质窗耦合到工艺腔室内，其特征在于，所述线圈包括至少一个线圈绕组，所述线圈绕组包括至少两个线圈分支，所述至少两个线圈分支分别位于具有预设高度差的不同的水平面内，且通过线圈过渡段相连；其中，所述电感耦合线圈的输入端和输出端位于与所述介质窗距离较远的所述线圈分支上。
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