[发明专利]能够消除厚边效应的匀胶装置

摘要

本发明公开了一种能够消除厚边效应的匀胶装置，包括匀胶盘，匀胶盘上端面上设置有凹槽，凹槽的轮廓与所述晶圆片的轮廓匹配；凹槽的槽底中部设置有凸台，凸台的上端面上设置有用于实现真空吸附的沟槽，沟槽底部设置有轴向贯通匀胶盘的通孔；所述匀胶盘上端面上凹槽以外的区域形成导流面，导流面在匀胶盘轴向上的高度高于凸台上端面，导流面和凸台上端面之间的高度差等于晶圆片的厚度。本发明的有益技术效果是提出了一种能够消除厚边效应的匀胶装置，该匀胶装置中的匀胶盘的结构不同于现有技术，本发明的匀胶盘可以将扩散至晶圆片边缘的光刻胶继续向外导出，从而避免光刻胶在晶圆片边缘形成厚边。

主权项

一种能够消除厚边效应的匀胶装置，包括用于放置晶圆片的匀胶盘(1)，其特征在于：所述匀胶盘(1)上端面上设置有凹槽(1‑1)，凹槽(1‑1)的轮廓与所述晶圆片的轮廓匹配；凹槽(1‑1)的槽底中部设置有凸台(1‑2)，凸台(1‑2)的上端面上设置有用于实现真空吸附的沟槽，沟槽底部设置有轴向贯通匀胶盘(1)的通孔(1‑7)；所述匀胶盘(1)上端面上凹槽(1‑1)以外的区域形成导流面(1‑5)，导流面(1‑5)在匀胶盘(1)轴向上的高度高于凸台(1‑2)上端面，导流面(1‑5)和凸台(1‑2)上端面之间的高度差等于晶圆片的厚度。