[发明专利]掩模框架组件及其制造方法有效
申请号: | 201710449767.6 | 申请日: | 2017-06-14 |
公开(公告)号: | CN107523786B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 金相勳 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种掩模框架组件及其制造方法,掩模框架组件包括框架、掩模和分区杆体,其中,掩模联接至框架并且包括用于沉积的图案区域,分区杆体联接至框架并被配置为将掩模的图案区域划分为单位单元图案。分区杆体包括:一对相对的固定端部,其固定至框架的侧边;以及窄宽度部分,其连接一对固定端部并且包括分别从固定端部的在宽度方向上的两个边缘向内凹进的第一分区部分和第二分区部分。 | ||
搜索关键词: | 框架 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种掩模框架组件,包括:框架;掩模,联接至所述框架并且包括用于沉积的图案区域;以及分区杆体,联接至所述框架并且被配置为将所述掩模的所述图案区域划分为单位单元图案,其中所述分区杆体包括:一对相对的固定端部,固定至所述框架的侧边;以及窄宽度部分,连接一对所述固定端部并且包括分别从所述固定端部的在宽度方向上的两个边缘向内凹进的第一分区部分和第二分区部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710449767.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:钼基合金表面抗氧化涂层及其制备方法
- 下一篇:一种平底钻的镀膜工艺
- 同类专利
- 专利分类