[发明专利]鳍式场效晶体管的制造方法有效
| 申请号： | 201710455864.6 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN108231885B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 蔡俊雄;游国丰;方子韦 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L29/08;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 揭露一种鳍式场效晶体管的制造方法。一种例示方法包含形成鳍片结构，其中鳍片结构包含设置在源极区及漏极区之间的通道区；形成栅极结构在鳍片结构的通道区上；形成固相扩散层在鳍片结构的源极区及漏极区上；以及进行微波退火制程，以自固相扩散层扩散掺质至鳍片结构的源极区及漏极区。在一些实施例中，固相扩散层是设置在鳍片结构上，使掺质横向地及纵向地扩散至源极区及漏极区，以形成重掺杂源极/漏极特征。 | ||
| 搜索关键词： | 鳍式场效 晶体管 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种鳍式场效晶体管的制造方法，其特征在于，包含：形成一鳍片结构，其中该鳍片结构包括一通道区，且该通道区设置在一源极区及一漏极区之间；形成一栅极结构在该鳍片结构的该通道区上；形成一固相扩散层在该鳍片结构的该源极区及该漏极区上；以及进行一微波退火制程，以自该固相扩散层扩散一掺质至该鳍片结构中，而使一掺杂特征形成在该鳍片结构的该源极区及该漏极区内。
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