[发明专利]一种增大离子注入束流的离子发射装置及方法有效

专利信息
申请号: 201710456328.8 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN107393796B 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 康晓旭;曾绍海 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种增大离子注入束流的离子发射装置,包括离子源、第一吸极、储存磁场和磁性分析部件,所述第一吸极设置在离子源的出口方向,所述储存磁场与所述第一吸极的出口偏转一定的角度,该角度使得经过第一吸极的离子进入储存磁场中做圆周运动,所述磁性分析部件用于对储存磁场中的离子进行检测分离;所述离子源电离的离子经过第一吸极引出,被第一吸极引出的离子进入储存磁场中做圆周运动,当储存磁场中的离子数量达到规定值时,将储存磁场中的离子释放至所述磁性分析部件中。本发明提供的增大离子注入束流的离子发射装置可以增大离子注入束流,进而提高离子注入工艺的均匀性和效率。
搜索关键词: 一种 增大 离子 注入 发射 装置 方法
【主权项】:
1.一种增大离子注入束流的离子发射装置,其特征在于,包括离子源、第一吸极、储存磁场和磁性分析部件,所述第一吸极设置在离子源的出口方向,所述储存磁场与所述第一吸极的出口偏转一定的角度,该角度使得经过第一吸极的离子进入储存磁场中做圆周运动,所述磁性分析部件用于对储存磁场中的离子进行检测分离;所述离子源电离的离子经过第一吸极引出,被第一吸极引出的离子进入储存磁场中做圆周运动,所述储存磁场设置可打开的缺口,当储存磁场中的离子数量达到规定值时,所述储存磁场打开缺口,将储存磁场中的离子释放至所述磁性分析部件中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710456328.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top