[发明专利]一种金属钛掺杂类金刚石薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710463954.X | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107419228B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 朱得菊;吴德生;陈立 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵青朵<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种金属钛掺杂类金刚石薄膜的制备方法，包括：将掺钛石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到金属钛掺杂类金刚石薄膜；所述混合气体为氢气和氩气。本发明在制备金属钛掺杂类金刚石薄膜时，巧妙地引入了Ti元素，极大地提高了薄膜的耐磨性能，有效降低了类金刚石碳基薄膜生长过程中的内应力。因而，本发明制得的金属钛掺杂类金刚石薄膜具有较好的光学特性、硬度和耐磨性，能够适用于对光学和机械性能均有要求的器件，同时，还具有较好的疏水性。另外，本发明提供的制备方法在工业生产中操作方便，可以得到均匀稳定的产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掺杂 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属钛掺杂类金刚石薄膜的制备方法，其特征在于，包括：/n将掺钛石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射，在衬底上沉积得到金属钛掺杂类金刚石薄膜；/n所述混合气体为氢气和氩气；/n所述磁控溅射的功率为4～9KW；/n所述掺钛石墨靶材按照以下方法制备：/n将金属钛粉与石墨粉混匀，高温烧结，得到掺钛石墨靶材；/n所述金属钛粉与所述石墨粉的质量比为1～20：80～99。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司，未经信利光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710463954.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
