[发明专利]气体混合装置和基板处理装置有效
申请号: | 201710464610.0 | 申请日: | 2017-06-19 |
公开(公告)号: | CN107523805B | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 山下润 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种在对多种气体进行混合时使气体均匀地混合的气体混合装置和基板处理装置。在上表面被封闭的圆筒部的底面中央部设置有气体流出路,沿着气体流出路的开口缘以隔着间隔的方式配置相对于圆筒部的中心呈旋转对称的多个气体流导向壁。另外,使气体流导向壁的周向的一个端部向靠圆筒部的中心部的位置屈曲。而且,在气体流导向壁与圆筒部的内周面之间的靠气体流导向壁周向的另一侧的位置处连接有第一气体流入管~第三气体流入管。从第一气体流入管~第三气体流入管供给的气体成为沿气体流导向壁的外周面流动后沿处于周向的一侧的气体流导向壁的内周面流动的涡流,来在气体流出路中被混合。 | ||
搜索关键词: | 气体 混合 装置 处理 | ||
【主权项】:
1.一种气体混合装置,用于对多种气体进行混合,该气体混合装置的特征在于,具备:圆筒部,其上表面被封闭;气体流出路径,其在所述圆筒部的底面的中央部开口并向下方延伸;多个气体流导向壁,该多个气体流导向壁沿着所述气体流出路径中的靠所述底面的开口缘以在周向上彼此隔着间隔的方式配置并且设置为相对于所述圆筒部的中心呈旋转对称,并朝向所述上表面突出;以及气体流入部,其设置在所述气体流导向壁与圆筒部的内周面之间,供要进行混合的气体流入,其中,在所述圆筒部的周向上以顺时针和逆时针中的一方观察时,当将朝向该一方的方向的一侧定义为前方时,所述气体流导向壁随着趋向前方侧而向靠所述圆筒部的中心部的位置屈曲,使得将流入到圆筒部的内周面与气体流导向壁之间的气体沿着该气体流导向壁的外周面导向到所述气体流出路径,由此形成涡流。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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