[发明专利]一种光扩散片的制备方法在审
| 申请号： | 201710474086.5 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN107290808A | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 周雷;许昕宇;马小雪;范媛媛;李冠男 | 申请（专利权）人： | 淮阴工学院 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 张华蒙 |
| 地址： | 223003 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光扩散片的制备方法，属于光扩散片技术领域，包括如下步骤S1，采用双光束随机干涉曝光方法在光刻胶版上制备随机纳米结构；S2，将具有随机纳米结构的光刻胶版作为电铸模板进行精密电铸，将随机纳米结构转移到金属镍版；S3，将金属镍版作为压印模板，通过紫外纳米压印方法或热压印方法压印光扩散片材料，制作出光扩散片。本发明的一种光扩散片的制备方法，制备的光扩散片的表面微结构是随机纳米结构，利用基于波动光学原理的光线衍射特性实现光线的扩散和柔化，使得光束扩散更加均匀；该制备方法成本低廉，工艺简洁，易于实现批量化和大幅面制造，具备很好的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光扩散片的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：S1，采用双光束随机干涉曝光方法在光刻胶版上制备随机纳米结构；S2，将具有随机纳米结构的光刻胶版作为电铸模板进行精密电铸，将随机纳米结构转移到金属镍版；S3，将金属镍版作为压印模板，通过紫外纳米压印方法或热压印方法压印光扩散片材料，制作出光扩散片。
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