[发明专利]卷扬提升式RH真空处理系统及其卷扬提升结构和支承装置

摘要

本发明涉及一种卷扬提升式RH真空处理系统及其卷扬提升结构和支承装置，支承装置包括升降框架和升降框架支承机构，升降框架支承机构包括多个第一支承组件，各第一支承组件环绕升降框架的升降通道布置，每一第一支承组件包括第一支腿和用于驱动第一支腿在工作位与非工作位之间切换的第一驱动单元，在工作位，第一支腿伸至升降框架的升降通道上，在非工作位，第一支腿偏离升降框架的升降通道。正常生产时各第一支腿不占用升降框架的升降通道，保证生产正常运行，在需要时能对升降框架有效支撑；升降框架构成的真空室支承机构与升降框架支承机构互相协作而互不干扰，布局结构紧凑且合理，占用空间小，是一种可靠、实用且经济的设计方案。

主权项

1.一种用于卷扬提升式RH真空处理系统的支承装置，包括用于与卷扬装置连接并支承真空室的升降框架，其特征在于：还包括升降框架支承机构，所述升降框架支承机构包括多个第一支承组件，各所述第一支承组件环绕所述升降框架的升降通道布置，每一所述第一支承组件包括第一支腿和用于驱动所述第一支腿在工作位与非工作位之间切换的第一驱动单元，在工作位，所述第一支腿伸至所述升降框架的升降通道上以支承所述升降框架，在非工作位，所述第一支腿偏离所述升降框架的升降通道；所述升降框架上设有多个第二支承组件，每一所述第二支承组件包括第二支腿和用于驱动所述第二支腿在支承位与非支承位之间切换的第二驱动单元，所述第二支腿的数量与真空室上的真空室支座的数量相同且一一对应配置，在支承位，所述第二支腿伸至对应的所述真空室支座的升降通道上，在非支承位，所述第二支腿偏离对应的所述真空室支座的升降通道。