[发明专利]一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201710481581.9 | 申请日： | 2017-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN107037521B | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 王孝东;陈波;王海峰;郑鑫 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法，该方法包括：确定制备121.6nm窄带负滤光片时所需的多层膜的镀膜材料以及相应的基础膜系结构；基于镀膜材料以及基础膜系结构，计算相应的等效导纳以及位相厚度；根据等效导纳以及位相厚度，依次在多层膜与入射介质之间、以及多层膜与基底之间分别进行导纳匹配处理，以对基础膜系结构进行优化，得到优化后膜系结构；根据优化后膜系结构，制备相应的121.6nm窄带负滤光片。本申请可消除由于多层膜与入射介质、基底之间导纳不匹配而使得旁带和可见光波段具有高反射率的现象，而基于上述经过优化处理的膜系结构制备得到的121.6nm负滤光片具有较低的旁带以及可见光波段的反射率，从而有利于提升121.6nm谱线的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 121.6 nm 窄带 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种121.6nm窄带负滤光片制备方法，其特征在于，包括：确定制备121.6nm窄带负滤光片时所需的多层膜的镀膜材料以及相应的基础膜系结构；其中，所述基础膜系结构为sub/(0.7H0.6L0.7H)^11/air；基于所述镀膜材料以及所述基础膜系结构，计算相应的等效导纳以及位相厚度；根据所述等效导纳以及位相厚度，依次在多层膜与入射介质之间、以及多层膜与基底之间分别进行导纳匹配处理，以对所述基础膜系结构进行优化，得到优化后膜系结构；根据所述优化后膜系结构，制备相应的121.6nm窄带负滤光片。
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