[发明专利]用于制造偏光膜的方法和系统有效

专利信息
申请号: 201710494228.4 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN107144910B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 郭建生;徐维廷;王世豪 申请(专利权)人: 住友化学股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;鲍俊萍
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种用于制造偏光膜的方法,包括对于一偏光膜前驱物进行一染色处理以及一交联处理。该交联处理,包括使偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液、以及通过投入一沉淀剂调整该槽液。沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物。在将沉淀剂投入槽液之后,沉淀剂的金属阳离子与槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成析出化合物。沉淀剂的选择满足反应形成的析出化合物的溶解度小于沉淀剂的该化合物的溶解度的条件。
搜索关键词: 用于 制造 偏光 方法 系统
【主权项】:
1.一种用于制造偏光膜的方法,其特征在于,包括:对于一偏光膜前驱物进行一染色处理及一交联处理,以形成一偏光膜,其中,该交联处理包括:使该偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液;以及通过投入一沉淀剂调整该槽液,该沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物,其中,在将该沉淀剂投入该槽液之后,该沉淀剂的该金属阳离子与该槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成一析出化合物,且其中,该沉淀剂的选择满足下列条件:反应形成的该析出化合物的溶解度小于该沉淀剂的该化合物的溶解度。
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