[发明专利]一种大棚富硒西瓜种植的方法

摘要

本发明公开了一种大棚富硒西瓜种植的方法，其特征在于，包括以下方面（1）种子处理，选择优良西瓜种子，并使用次氯端纳进行杀菌处理；（2）种子预发芽，使用磁化后富硒营养液，在恒温条件下进行预发芽处理；（3）无土育苗，富硒营养液与N6培养基配比13，对西瓜种子无土育苗；（4）土壤施肥，使用富硒有机肥，进行四层施肥，并使用塑料膜覆盖发酵；（5）土壤移栽，将西瓜幼苗移栽至大棚土壤中；（6）种植管理，在白天和夜间，进行二氧化碳和氧气含量调整，促进植株生长；（7）富硒营养液喷洒，在西瓜植株不同生长阶段喷洒富硒营养液，提高植株对硒的吸收。本发明西瓜种植方法，可提高西瓜中硒含量和亩产产量，缩短种植周期，提前上市销售，方法操作简单、实用。

主权项

一种大棚富硒西瓜种植的方法，其特征在于，包括以下方面：（1）种子处理：除去西瓜种子劣质部分，使用优质西瓜种育苗，并在50ppm次氯酸钠溶液中浸泡15‑17min，杀菌处理；（2）种子预发芽：将富硒营养液，在强磁化器中处理；培养托盘和棉纱布杀菌处理，将棉纱布折成2层，浸入富硒营养液中，取出拧去水分，平铺于培养托盘底部；将西瓜种子在棉纱布上平铺一层，共计铺设3‑4层，进行恒温预发芽；（3）无土育苗：将富硒营养液加入至N6培养基中混合，其中富硒营养液与N6培养基质量配比为1:3，制得富硒培养基；经过预发芽的西瓜种子移植到富硒培养基中，进行无土育苗；（4）土壤施肥：用次氯酸钠溶液对大棚种植土壤喷洒，晾晒3‑4天；对土壤施富硒有机肥，栽种畦由下向上共四层：第一层富硒有机肥层，厚度3‑4cm；第二层土层，厚度5‑7cm，第三层富硒有机肥层，厚度1.5‑2cm；第四层土层，厚度4‑5cm；然后，向栽种区土壤喷洒含有5%‑6%发酵剂的水，用塑料薄膜将栽种畦封盖，静置5‑7天；（5）土壤移栽：在栽种畦上，西瓜幼苗按照株间距为8‑10cm移栽，并使用浓度为0.5%尿素液对根部浇灌定植；（6）种植管理：大棚温度23℃‑26℃，昼夜温差不高于10℃，湿度55%‑60%；在白天和夜间，进行二氧化碳和氧气含量调整；（7）富硒营养液喷洒：喷洒前，对富硒营养液进行磁化处理；幼苗生长期，每9‑10天，喷洒1次；幼苗至开花前，每6‑7天，喷洒1次；结果至成熟期，每3‑4天，喷洒1次；选择早晨9‑10点进行喷洒。