[发明专利]双能分析光栅在审
| 申请号： | 201710504101.6 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107290359A | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 荣锋;梁莹 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种双能分析光栅，它主要包括高能栅条和低能栅条。高能栅条能将高能X射线转化为可见光，屏蔽低能X射线，低能栅条能将低能X射线转化为可见光，屏蔽高能X射线。光栅材料为碘化铯(CsI)和铋(Bi)。本发明克服了传统分析光栅的不足，利用双能分析光栅对不同能量X射线的转化代替了步进，将双能分析光栅应用于双能成像系统中，减少了成像的步骤，降低了对机械精度的要求，简化了成像系统。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 光栅 | ||
【主权项】：
一种双能分析光栅，其特征在于，双能分析光栅由高能栅条和低能栅条水平交错排列组成，栅条以硅为基底，高能栅条宽度为2μm，在硅基的正面挖50μm深槽，填充铋，在硅基背面挖280μm深槽，填充碘化铯；低能栅条宽度为2μm，在硅基没有填充，在光栅背面整体电镀120μm厚的碘化铯。
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