[发明专利]一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法在审
| 申请号： | 201710504813.8 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107460485A | 公开（公告）日： | 2017-12-12 |
| 发明（设计）人： | 万浩;司乃潮;刘光磊;葛俊杰;倪凯 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于先进纳米结构制备技术领域，特别涉及一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法。将清洗过的金属件固定于靶盘上并放入对配有离子束辐照系统的真空腔中，抽真空使其真空度达到10‑4Pa级；对金属件表面进行离子束辐照处理，离子束与金属面间入射角的选取范围为80°‑90°，离子束加速电压的选取范围为1keV‑100keV，束流大小的选取范围为100mA‑50μA，离子辐照剂量的选取范围为1014‑1018cm‑2；使用离子束顺次扫过待制备纳米多孔结构的金属表面，并通过控制离子束的辐照剂量来实现合金表面不同孔径纳米多孔的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 金属表面 制备 孔径 可控 纳米 多孔 方法 | ||
【主权项】：
一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，利用入射高能离子对金属表面的溅射刻蚀作用，通过控制入射离子使之与金属表面呈特定角度进行辐照来使金属面出现圆整的纳米孔，通过控制离子辐照的剂量来调节金属表面所形成纳米孔的大小，其特征在于：将清洗过的金属件固定于靶盘上并放入对配有离子束辐照系统的真空腔中，抽真空使其真空度达到10‑4Pa级；对金属件表面进行离子束辐照处理，离子束与金属面间入射角的选取范围为80°‑90°，离子束加速电压的选取范围为1keV‑100keV，束流大小的选取范围为100mA‑50μA，离子辐照剂量的选取范围为1014‑1018cm‑2；使用离子束顺次扫过待制备纳米多孔结构的金属表面，并通过控制离子束的辐照剂量来实现合金表面不同孔径纳米多孔的制备。
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