[发明专利]抗菌耐磨非晶碳涂层及其制备方法、抗菌耐磨器件有效

专利信息
申请号: 201710511145.1 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN107326336B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 刘小强;向佳;姚霞;陈鑫琦;孟辉 申请(专利权)人: 四川理工学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/02
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘兵
地址: 643000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及离子束材料表面改性技术领域,具体涉及抗菌耐磨非晶碳涂层及其制备方法、抗菌耐磨器件,所述抗菌耐磨非晶碳涂层的制备方法,包括以下步骤:(1)对基底进行等离子体清洗,得到基底A1;(2)涂层沉积:向沉积室中通入碳源气体和惰性气体,开启偏压电源,以银硅复合靶T为靶材,在基底A1上溅射沉积银硅共掺杂类石墨非晶碳涂层C1,本发明通过银和硅对类石墨非晶碳涂层进行改性,硅的掺入使类石墨非晶碳涂层的润滑性能和耐磨损性能显著提升,银的掺入显著提高了类石墨非晶碳涂层材料的抗菌性能,而且银的释放速度慢,抗菌效果持续时间长,且具有良好的生物相容性,在日常生活以及医用等领域有较好的应用前景。
搜索关键词: 抗菌 耐磨 非晶碳 涂层 及其 制备 方法 器件
【主权项】:
一种抗菌耐磨非晶碳涂层,其特征在于,包括银硅共掺杂类石墨非晶碳涂层C1,所述银硅共掺杂类石墨非晶碳涂层C1包括以下元素:碳、氧、硅和银;优选的,所述涂层C1中各元素的原子百分含量为:碳75~80at.%,氧10~15at.%,硅3~8at.%,银2~7at.%;优选的,所述涂层C1的拉曼光谱的特征峰为:G峰位于1500~1600cm‑1之间,D峰位于1300~1380cm‑1之间,D峰与G峰强度比为1:(1~3);更优选的,所述涂层C1的厚度为1~3μm。
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