[发明专利]温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用有效

专利信息
申请号: 201710512030.4 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107153092B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 刘颖;鞠熀先;孟潇;成全 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N1/28;C08F120/54
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 施婷婷
地址: 210046 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用,基于光影印技术和炔基与巯基的点击化学技术,在氧化铟锡玻片(ITO玻片)构建羟基亲水性微阵列,再在亲水微阵列内基于表面引发原子转移自由基聚合生成高分子聚(N‑异丙基丙烯酰胺)(PNIPAM)的可控亲水性阵列。当低于临界温度时高分子阵列其亲水性作用使得样品汇聚在玻片表面,高于临界温度时蛋白质/肽段通过疏水作用与疏水性的高分子阵列相吸附,而共存的盐和污染物则被冲走,从而实现样品靶上自除盐和高效富集的预处理,进而可对目标样品进行MALDI‑MS一步快速检测。本发明制备及操作简单、普适性高、分析时间短、成本低廉,具有一定的生物医学应用价值。
搜索关键词: 亲水性 制备 样品预处理 微阵列 玻片 温敏 表面引发原子转移自由基聚合 异丙基丙烯酰胺 预处理 生物医学应用 玻片表面 点击化学 高效富集 快速检测 目标样品 疏水作用 氧化铟锡 普适性 疏水性 响应 影印 除盐 构建 可控 亲水 炔基 吸附 巯基 肽段 羟基 蛋白质 应用 污染物 汇聚 分析
【主权项】:
1.温敏响应高分子阵列的应用,其特征在于,利用光影印技术和炔基与巯基的点击化学技术,在氧化铟锡玻片构建羟基亲水性微阵列;利用羟基与2‑溴异丁酰溴间的共价反应形成原位自由基聚合反应的引发剂,再在溴化亚铜和2,2’‑联吡啶的催化下,单体N‑异丙基丙烯酰胺在氧化铟锡玻片表面聚合生成所述温敏反应高分子阵列,即高分子聚(N‑异丙基丙烯酰胺)的可控亲水性阵列;所述温敏反应高分子阵列可通过温度转变自发进行表面除盐及样品富集,并用于对样品的预处理。
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