[发明专利]一种X射线荧光光谱分析方法在审
申请号: | 201710514132.X | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN107328800A | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | 杜亚明 | 申请(专利权)人: | 苏州浪声科学仪器有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 苏州知途知识产权代理事务所(普通合伙)32299 | 代理人: | 张锦波 |
地址: | 215100 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种X射线荧光光谱分析方法,X射线荧光光谱分析方法中X射线源设置在检测仓底部,X射线源发射的X射线以垂直角度照射到样品上,提高了检测精度。同时,通过设置具有反射镜的准直部件,在需要通过摄像头观察样品位置时,通过直线电机使准直块处于观察位置,此时可通过摄像头观察样品,且拍摄的图像不产生变形失真,产品成像和位置的调整更为精确。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 荧光 光谱分析 方法 | ||
【主权项】:
一种X射线荧光光谱分析方法,其特征在于,使用XRF样品检测装置,XRF样品检测装置包括,样品台(41),中间设置有样品检测孔(411);检测仓(40),密封设置在样品台(41)底部,一侧安装有观察窗(401);X射线源(42),设置在检测仓(40)底部,X射线源(42)的X射线发射管沿竖直方向布置;探测器(44),设置在检测仓(40)另一侧,用于探测样品发出的二次X射线;摄像头(43),镜头对准观察窗(401);准直部件(45),包括,设置在检测仓(40)外的电机;设置在检测仓(40)底部的导轨(453);设置导轨(453)上的准直块(451);准直块(451)上设置有反射镜(4511)和至少一个竖直布置的准直孔(4512),准直块(451)能够在直线电机(452)的驱动下沿导轨(453)运动;包括以下步骤:S1:将样品放置在样品台(41)上,样品对准检测孔(411);S2:通过电机调节准直块(451)上的反射镜(4511)位置,使摄像头(43)经反射镜(4511)能拍摄到样品台(41)上样品;S3:根据摄像头(43)拍摄到的图像调节样品的位置,使样品上的检测区域位于检测孔(411)中心;S4:通过电机调节准直块(451)位置,使准直块(451)上的准直孔(4512)处于X射线源(42)与检测孔(411)之间,准直孔(4512)为多个时,还需要根据检查区域的大小选择准直孔(4512)的孔径;S5:启动X射线源(42)和探测器(44),完成对样品的X射线荧光光谱分析。
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