[发明专利]重复利用三氧化钼制备单层二硫化钼薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201710519326.9 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107385508B 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 陈波 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C30B25/00 分类号: C30B25/00;C30B29/46
代理公司: 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 代理人: 朱源;武建云
地址: 030024 *** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种重复利用三氧化钼来制备单层二硫化钼薄膜的方法。以固态S和MoO3为前驱体,经化学气相反应后在目标衬底上沉积单层MoS2薄膜,其中管式炉温区中S蒸汽的浓度通过载气流量的大小来调节,以防止MoO3中毒。该方法可以多次重复使用MoO3前驱体来制备大面积单层MoS2薄膜,且组成薄膜的单晶MoS2晶粒尺寸可达100μm。
搜索关键词: 重复 利用 氧化钼 制备 单层 二硫化钼 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种重复利用三氧化钼制备单层二硫化钼薄膜的方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)、在石英管管式炉中,将S粉放在第一陶瓷舟中,置于载气气流下游;MoO3粉末放在第二陶瓷舟中,置于载气气流上游;蓝宝石衬底置于石英管管式炉温区中;第一陶瓷舟位于蓝宝石衬底的下游,第二陶瓷舟位于蓝宝石衬底的上游;其中,S粉、MoO3粉末、蓝宝石衬底到管式炉中心的距离分别为17cm、11cm、6.5~7cm;(2)、将石英管内的空气抽除,然后充入载气,直到石英管内的压强恢复到大气压,重复两次;(3)、调节载气流量大小为50sccm,加热管式炉,使S蒸汽与MoO3蒸汽在高温下反应,在衬底上沉积单层MoS2薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太原理工大学,未经太原理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710519326.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top