[发明专利]一种基于TSV技术的埋置型三维集成封装结构在审
申请号: | 201710520759.6 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107275296A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 姚昕;明雪飞;吉勇 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/535 |
代理公司: | 总装工程兵科研一所专利服务中心32002 | 代理人: | 杨立秋 |
地址: | 214000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及集成电路封装技术领域,特别是涉及基于TSV技术的集成电路封装技术领域。本发明实施例中,基于TSV技术的埋置型三维集成封装结构,包括,所述三维集成封装结构由若干个二维结构通过TSV转接板微凸点互连;所述二维封装结构由摩尔芯片、TSV转接板、再布线层、微凸点构成;所述摩尔芯片埋置在TSV转接板上下两面,在所得结构上下两面设有金属再布线层,并且通过再布线层以及TSV转接板通孔金属材料实现摩尔芯片的信号互连。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 tsv 技术 埋置型 三维 集成 封装 结构 | ||
【主权项】:
一种制作基于TSV技术的埋置型三维集成封装结构的方法,其特征在于,包括:根据摩尔芯片尺寸大小、电互连设计要求,设计制作TSV转接板圆片;在所述TSV转接板圆片上下两面制作若干凹槽,所述凹槽尺寸、厚度与所述摩尔芯片尺寸、厚度相当;将所述摩尔芯片埋置在所述凹槽内,摩尔芯片的焊盘面朝外,在所述圆片上制作一层介质层,露出摩尔芯片的焊盘和TSV焊盘;通过再布线工艺,在所述介质层上制作连接所述摩尔芯片焊盘和TSV焊盘的金属再布线,根据互连关系,实现摩尔芯片与TSV转接板的互连;在所述金属再布线上制作一层钝化层,露出TSV焊盘位置,形成钝化层开口;在钝化层开口制作微凸点,并对埋置摩尔芯片的TSV转接版圆片进行切割,形成单颗的基于TSV技术的埋置型二维集成封装结构;所述二维集成封装结构通过TSV转接板微凸点实现多颗二维集成封装结构Z向堆叠集成。
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