[发明专利]用于单极化或双极化的薄膜全内反射衍射光栅有效
| 申请号： | 201710521074.3 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107664783B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | J.M.米勒;G.威尔斯;L.田;M.奥莱瑞 | 申请（专利权）人： | 朗美通经营有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 谭华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种衍射光栅，可以包括基板。所述衍射光栅可以包括蚀刻停止层，以防止蚀刻所述基板。所述蚀刻停止层可以沉积在所述基板上。所述衍射光栅可以包括指示与电介质层的蚀刻相关联的蚀刻终点的标记层。所述标记层可以沉积在所述蚀刻停止层的一部分上。所述衍射光栅可以包括所述电介质层，所述电解质层在被蚀刻之后形成光栅层。所述电介质层可以至少沉积在所述标记层上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 极化 薄膜 反射 衍射 光栅 | ||
【主权项】：
一种衍射光栅，包括：基板；蚀刻停止层，防止蚀刻所述基板，所述蚀刻停止层沉积在所述基板上；标记层，指示与电介质层的蚀刻相关联的蚀刻终点，所述标记层沉积在所述蚀刻停止层的一部分上；以及所述电介质层，在被蚀刻后形成光栅层，所述电介质层至少沉积在所述标记层上。
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