[发明专利]具有隔板的增强用膜在审
申请号: | 201710521337.0 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107553995A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 佐佐木翔悟;设乐浩司;徐创矢;越智元气 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B7/12 | 分类号: | B32B7/12;B32B7/06;B32B33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 肖靖泉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供具有隔板的增强用膜,其包括增强用膜P和隔板Q且具有以下特征在剥离隔板时可发生的剥离起电可被抑制;即使当将隔板从预先贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时,也可减轻对光学部件或电子部件的损害。其中增强用膜P包括基材层A1和粘合剂层A2;隔板Q包括抗静电脱模层B和基材层B3;粘合剂层A2和抗静电脱模层B直接层叠;和当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,粘合剂层A2的表面具有10kV或更低的剥离起电电压,并且抗静电脱模层B的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。 | ||
搜索关键词: | 具有 隔板 增强 | ||
【主权项】:
具有隔板的增强用膜,其包括:增强用膜P;和隔板Q,其中:增强用膜P包括基材层A1和粘合剂层A2;隔板Q包括抗静电脱模层B和基材层B3;粘合剂层A2和抗静电脱模层B直接层叠;当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,粘合剂层A2的表面具有10kV或更低的剥离起电电压,并且抗静电脱模层B的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。
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