[发明专利]离子源

摘要

本发明提供一种离子源，不需要用于将支承基体保持在所希望的位置的止动件或控制就能将支承基体简单地保持在所希望的位置。在等离子体生成室周围配置永磁铁的离子源具备：阴极，插通于等离子体生成室内，向等离子体生成室内放出电子；支承基体，设置于等离子体生成室外部而支承阴极；驱动机构，使支承基体向从等离子体生成室的外壁面拉开的方向移动；以及伸缩部件，介于支承基体与等离子体生成室的外壁面之间并覆盖贯通孔的周围，将支承基体与等离子体生成室的外壁面之间的空间保持为气密，被驱动机构的驱动力从等离子体生成室的外壁面拉开的处于后退位置的支承基体被吸引力向相比后退位置靠等离子体生成室的外壁面处拉近而被保持在前进位置。

主权项

1.一种离子源，在等离子体生成室的周围配置有永磁铁，其特征在于，具备：阴极，从在所述等离子体生成室的壁面形成的贯通孔插通于所述等离子体生成室内，并向所述等离子体生成室内放出电子；支承基体，设置于所述等离子体生成室的外部而支承所述阴极；驱动机构，使所述支承基体向从所述等离子体生成室的外壁面拉开的方向移动；以及伸缩部件，介于所述支承基体与所述等离子体生成室的外壁面之间并覆盖所述贯通孔的周围，将所述支承基体与所述等离子体生成室的外壁面之间的空间保持为气密，通过将所述驱动机构的驱动力中断，或者使所述驱动力小于利用所述等离子体生成室的真空排气而产生的吸引力，从而被所述驱动机构的驱动力从所述等离子体生成室的外壁面拉开的处于后退位置的所述支承基体由于所述吸引力而从所述后退位置朝向所述等离子体生成室的外壁面移动，而被保持在前进位置。