[发明专利]阵列电极的电化学约束刻蚀系统有效
| 申请号： | 201710524891.4 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107385504B | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 胡振江;闫永达;詹东平;曹永智;赵学森;韩联欢 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学;厦门大学 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/02;B23H3/04;B23H3/00;B81C1/00;B81B7/04;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人： | 高媛 |
| 地址： | 150000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 电化学 约束 刻蚀 阵列 电极 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种阵列电极的电化学约束刻蚀系统，其特征是：其组成包括主控制系统，所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统，所述的阵列电极（1）包括多个单元电极，每个单元电极均对应一个模拟开关，每个电极的大小及形态，需要均匀一致。
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