[发明专利]AMOLED用金属掩膜板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201710525447.4 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN109216405A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 李晓伟;陈林森;邵仁锦;浦东林;周小红;谢文 申请(专利权)人: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 蔡光仟
地址: 215026 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法,包括:形成具有导电图形电极层的基板;对基板进行电铸生长,形成AMOLED用金属掩膜板;将AMOLED用金属掩膜板从基板分离;以及对基板重复进行电铸生长形成AMOLED用金属掩膜板。本发明提供的AMOLED用金属掩膜板的制造方法生产效率高,同时还能有效地降低生产周期和生产成本。
搜索关键词: 金属掩膜板 对基板 电铸 制造 导电图形 基板分离 降低生产 生产效率 生长 电极层 有效地 基板 生产成本 重复
【主权项】:
1.一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法,其特征在于,包括:形成具有导电图形电极层(120)的基板(100);对所述基板(100)进行电铸生长,形成AMOLED用金属掩膜板(200);将所述AMOLED用金属掩膜板(200)从所述基板(100)分离;以及对所述基板(100)重复进行电铸生长形成所述AMOLED用金属掩膜板(200)。
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