[发明专利]一种减反射结构的制备方法和减反射结构在审
| 申请号： | 201710536611.1 | 申请日： | 2017-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN107140842A | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 周婷婷;张斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 刘悦晗,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种减反射结构的制备方法和减反结构。所述减反射结构的制备方法包括，将多个颗粒与聚合物溶液混合，在基板上涂覆所述混合有多个颗粒的聚合物溶液，并对基板上的混合有多个颗粒的聚合物溶液进行固化，以形成聚合物薄膜，所述颗粒裸露于所述聚合物薄膜之外，相比于现有减反结构的制备方法，无需通过模具制备，从而制备成本较低，而且，也无需通过刻蚀工艺和压印工艺，进而制备过程简单。所述减反结构包括形成在基板上的掺杂有多个颗粒的聚合物薄膜，且颗粒裸露于聚合物薄膜之外，从而使聚合物薄膜的表面较为粗糙，当光线照射至减反射结构时，粗糙的表面使减反射结构对光的反射率较低，进而减小对光的镜面反射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种减反射结构的制备方法，其特征在于，包括：将多个颗粒与聚合物溶液混合；在基板上涂覆所述混合有多个颗粒的聚合物溶液；对所述混合有多个颗粒的聚合物溶液进行固化，以形成聚合物薄膜，所述颗粒裸露于所述聚合物薄膜之外。
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