[发明专利]半导体设备及其阻抗调节方法在审
| 申请号： | 201710538291.3 | 申请日： | 2017-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN107227446A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 徐宝岗;董博宇;文莉辉;耿玉洁;郭冰亮;王军 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种半导体设备以及半导体设备的阻抗调节方法。该半导体设备包括多个腔室，各腔室包括被配置为承载基片的基座，至少一个腔室设置有阻抗调节电路，阻抗调节电路被配置为调节对应腔室的基座与接地端之间的阻抗，以使多个腔室的所述阻抗保持一致。由此，该半导体设备可通过阻抗调节电路对基座与接地端之间的阻抗进行调节，以使多个腔室的所述阻抗保持一致，从而提高该半导体设备的薄膜沉积质量。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 及其 阻抗 调节 方法 | ||
【主权项】：
一种半导体设备，包括：多个腔室，其中，各所述腔室包括被配置为承载基片的基座，至少一个所述腔室设置有阻抗调节电路，所述阻抗调节电路被配置为调节对应腔室的所述基座与接地端之间的阻抗，以使所述多个腔室的所述阻抗保持一致。
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