[发明专利]一种采用多周期表面DFB光反馈系统抑制1550nm SLD器件F-P激射的方法在审

专利信息
申请号: 201710541987.1 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN109217106A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 张晶;孙春明;祝子翔;乔忠良;高欣;薄报学;李辉;王宪涛;魏志鹏;马晓辉 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种采用多周期表面DFB光反馈系统来抑制SLD器件的F‑P激射的方法属于光电子器件的结构设计与制备工艺领域。已知普通超辐射发光二极管不足之处是在传统激光器结构基础上,通过各种局部结构调整来破坏法布里‑珀罗(Fabry‑Perot,F‑P)型前后腔面之间的光振荡,进而抑制光激射的发生,该类SLD发光稳定性差、器件老化时会产生激射。本发明不单纯地抑制F‑P振荡,而是在各种传统抑制F‑P振荡的基础上,引入另外一个完全不同的光振荡系统,该光振荡系统参与竞争高能级载流子以达到钳制腔面间的F‑P增益、湮灭F‑P激射的目的,在确保该光振荡系统具有模式竞争能力强、对增加器件功率有益、对扩展光谱宽度有益等优点,并且在大电流注入下该光振荡系统不具备单独激射能力的同时,该结构器件只依靠后期制作工艺就能够实现,规避开二次外延生长工艺。
搜索关键词: 光振荡 光反馈系统 多周期 振荡 腔面 载流子 超辐射发光二极管 外延生长工艺 制备工艺领域 传统激光器 发光稳定性 光电子器件 后期制作 结构基础 结构器件 局部结构 模式竞争 器件功率 大电流 法布里 高能级 光激射 能力强 钳制 光谱 老化 引入
【主权项】:
1.一种采用多周期表面DFB光反馈系统抑制SLD器件F‑P激射的方法,其特征在于,其包括如下步骤:1)在脊形台面上利用纳米压印和ICP干法刻蚀制技术备出图2中所示的四组分别对应波长1520nm、1540nm、1560nm、1580nm的光栅,四组光栅周期分别为231.70nm、234.75nm、237.80nm和240.85nm,纳米洞直径均为80nm。2)上述纳米洞穿过上限制层并在上波导层中间处截止,在外延片上快速蒸镀SiO2,且在纳米洞的中上部细窄处形成如图3所示的纳米洞微腔结构,形成折射率在2以上的光子晶体结构。
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