[发明专利]一种等离子体发生装置有效
| 申请号： | 201710546618.1 | 申请日： | 2017-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN109219226B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 昌锡江 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 陈亚英 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子体发生装置。该等离子体发生装置包括依次连接的微波源、传输匹配结构和谐振腔，传输匹配结构能将微波源产生的微波能量馈入谐振腔，谐振腔的底壁下方用于设置介质窗和真空腔，谐振腔是由多段波导拼接构成的中心对称结构，且其对称中心与介质窗的中心在竖直方向上的投影重合，谐振腔的底壁上开设有多个狭缝，狭缝能将微波能量通过介质窗均匀地馈入真空腔。该等离子体发生装置通过开设在中心对称结构的谐振腔底壁上的多个狭缝将微波能量通过介质窗均匀地馈入真空腔中，能使真空腔内产生大面积均匀的表面波等离子体，从而满足对大面积晶圆的处理；同时，狭缝能够确保将微波能量馈入真空腔激发形成等离子体的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 发生 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体发生装置，包括依次连接的微波源、传输匹配结构和谐振腔，所述传输匹配结构能将所述微波源产生的微波能量馈入所述谐振腔，所述谐振腔的底壁下方用于设置介质窗和真空腔，其特征在于，所述谐振腔是由多段波导拼接构成的中心对称结构，且其对称中心与所述介质窗的中心在竖直方向上的投影重合，所述谐振腔的所述底壁上开设有多个狭缝，所述狭缝能将微波能量通过所述介质窗均匀地馈入所述真空腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710546618.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种除静电装置
- 下一篇：调谐装置及具有其的超导加速腔
