[发明专利]光罩、形成间隔物结构的方法以及形成液晶面板的方法有效
| 申请号： | 201710549600.7 | 申请日： | 2017-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN107092160B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 刘永振 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/50 | 分类号： | G03F1/50;G02F1/1339;G03F1/54;G03F1/34;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人： | 梁挥;孟超 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光罩、对应的间隔物结构及应用其的液晶面板。光罩包括一第一开口区以及一第二开口区。第一开口区与第二开口区分别具有长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值大于或等于1.25的几何形状，且第一开口区的面积大于第二开口区的面积。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 间隔 结构 方法 以及 液晶面板 | ||
【主权项】：
一种光罩，其特征在于，包括：一第一开口区；以及一第二开口区，其中该第一开口区与该第二开口区分别具有长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值大于或等于1.25的几何形状，且该第一开口区的面积大于该第二开口区的面积。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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