[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品制造方法在审

专利信息
申请号: 201710554192.4 申请日: 2017-07-10
公开(公告)号: CN107621754A 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 川岛春名;大阪昇 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 程晨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供一种在曝光量的均匀化方面有利的曝光装置。一种曝光装置,在使基板(W)和原版(R)移动的同时针对每个被摄区域对基板(W)进行扫描曝光,所述曝光装置具有整形部(117),对曝光被摄区域的曝光光进行整形;照明部(114),调整曝光光的光量分布;以及控制部(170),控制整形部(117)及照明部(114),控制部(170)控制照明部(114),以使在被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计曝光量分布相等,控制整形部(117),以使被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。
搜索关键词: 曝光 装置 方法 以及 物品 制造
【主权项】:
一种曝光装置,在使基板和原版移动的同时针对每个被摄区域对所述基板进行扫描曝光,所述曝光装置的特征在于,具有:整形部,对曝光所述被摄区域的曝光光进行整形;照明部,调整所述曝光光的光量分布;以及控制部,控制所述整形部及所述照明部,所述控制部控制所述照明部,以使在所述被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计的曝光量分布相等,所述控制部控制所述整形部,以使所述被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。
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