[发明专利]一种基于石墨烯/金属纳米带结构的近红外吸收体在审

专利信息
申请号: 201710564787.8 申请日: 2017-07-12
公开(公告)号: CN107436192A 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 张晓霞;陈浩;姬月华;余力;皮峣迪 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42;B82Y20/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种基于石墨烯/金属纳米带结构的近红外吸收体,属于电磁波完美吸收体。当入射波照射到金属纳米带阵列时,入射波在金属纳米带激发磁共振效应,从而使入射波的能量在金属纳米带缝隙处显著增强,在金属纳米带上下各加入一层石墨烯之后,增强的电磁波能量与上下石墨烯层作用并被吸收,整体结构达到对共振波长电磁波能量的近完美吸收。本发明具有五层结构,从下到上依次包括(1)基底、(2)绝缘层(3)第一石墨烯层、(4)金属纳米带、(5)第二石墨烯层,通过调整结构几何参数可以达到对特定波长的近完美吸收。
搜索关键词: 一种 基于 石墨 金属 纳米 结构 红外 吸收体
【主权项】:
一种基于石墨烯/金属纳米带结构的近红外吸收体,基于磁共振原理增强石墨烯对近红外波能量的吸收,通过设计不同的绝缘层厚度、金属纳米带尺寸,可实现对特定波长电磁波的近完美吸收,特征在于它包括基底、石墨烯、金属纳米带阵列,基底包括(1)银基底、(2)绝缘层,石墨烯层包括(Ⅰ)第一石墨烯层、(Ⅱ)第二石墨烯层,其中第一石墨烯层直接位于绝缘层之上、金属纳米带之下,第二石墨烯层设置在金属纳米带之上,即位于结构的上表面。
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