[发明专利]互补金属氧化物半导体图像感测器及光二极管与形成方法有效

专利信息
申请号: 201710569186.6 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN109256402B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 吴扬;依那.派翠克 申请(专利权)人: 恒景科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L29/861
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种互补金属氧化物半导体(CMOS)图像感测器及其光二极管(PD)与形成方法,该互补金属氧化物半导体图像感测器的光二极管包含具第二型的顶部光二极管,设于第一型层内;及具第二型的底部光二极管,设于第一型层内且位于顶部光二极管之下。底部光二极管包含至少一个具第二型的次光二极管(sub‑PD)连接至顶部光二极管,且包含至少一个具第一型的次阱区被次光二极管围绕。
搜索关键词: 互补 金属 氧化物 半导体 图像 感测器 二极管 形成 方法
【主权项】:
1.一种互补金属氧化物半导体图像感测器的光二极管,包含:具第二型的顶部光二极管,设于第一型层内;及具第二型的底部光二极管,设于该第一型层内且位于该顶部光二极管之下,该底部光二极管包含至少一个具第二型的次光二极管连接至该顶部光二极管,且包含至少一个具第一型的次阱区被该次光二极管围绕。
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