[发明专利]用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源有效
| 申请号： | 201710569795.1 | 申请日： | 2014-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN107180738B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | J·C·福斯特;J·约德伏斯基 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 金红莲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明是涉及用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源。提供了基板处理腔室以及用于处理多个基板的方法，并且所述基板处理腔室大体包括电感耦合的饼形等离子体源，所述电感耦合的饼形等离子体源定位成使得在压板上旋转的基板将穿过与所述等离子体源相邻的等离子体区域。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 旋转 压板 ald 等离子体 | ||
【主权项】：
1.一种饼形等离子体源，具有定义宽度的内周边缘和外周边缘，所述内周边缘比所述外周边缘窄，所述等离子体源包括沿着所述等离子体源的宽度延伸的间隔开的多个导电棒，所述等离子体源配置为在所述内周边缘与所述外周边缘之间形成具有基本上均匀的等离子体密度的电感耦合的等离子体，其中，相比在所述外周边缘处，朝向所述饼形等离子体源的所述内周边缘，导电棒的密集度更大。
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