[发明专利]真空沉积腔室有效
申请号: | 201710574813.5 | 申请日: | 2014-11-07 |
公开(公告)号: | CN107502858B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·班格特;安德烈亚斯·勒普;托马斯·格比利;乌韦·许斯勒;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述一种真空沉积腔室。所述真空沉积腔室包括:材料沉积设备,具有分配管道;以及基板支撑件,用于在沉积期间支撑基板,其中所述材料沉积设备的至少一个分配管道与所述基板支撑件之间的距离小于250mm。 | ||
搜索关键词: | 真空 沉积 | ||
【主权项】:
一种真空沉积腔室,包括:材料沉积设备,所述材料沉积设备具有分配管道;以及基板支撑件,用于在沉积期间支撑基板,其中所述材料沉积设备的所述分配管道中的至少一者与所述基板支撑件之间的距离小于250mm。
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