[发明专利]研磨台清洗装置及其清洗方法在审
| 申请号： | 201710586286.X | 申请日： | 2017-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN109261582A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 刘源;汪燕 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B24B37/34;B24B55/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 余昌昊 |
| 地址： | 201306 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种研磨台清洗装置及其清洗方法，用于清洗研磨台上的碱性研磨液，所述研磨台用于研磨晶元，所述研磨台包括卡盘和铺设在所述卡盘上的抛光布，所述研磨台清洗装置包括：第一清洗箱，用于储存去离子水；第二清洗箱，用于储存酸性溶液；输送管路，与所述第一清洗箱和所述第二清洗箱均连接，用于输送第一清洗箱中的去离子水和第二清洗箱中的酸性溶液，并喷洒在所述研磨台上，以清洗所述研磨台上的碱性研磨液。在本发明提供的研磨台清洗装置中，同时设置了第一清洗箱和第二清洗箱，分别输送去离子水和酸性溶液，从而在清洗研磨台时，可利用酸性溶液来中和碱性的研磨液，使研磨台得到彻底清洗，避免了研磨液对晶元的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗箱 研磨台 清洗 清洗装置 酸性溶液 研磨 研磨液 去离子水 晶元 卡盘 储存 输送管路 中和碱性 抛光布 喷洒 腐蚀 铺设 | ||
【主权项】：
1.一种研磨台清洗装置，用于清洗研磨台上的碱性研磨液，所述研磨台用于研磨晶元，其特征在于，所述研磨台清洗装置包括：第一清洗箱，用于储存去离子水；第二清洗箱，用于储存酸性溶液；输送管路，与所述第一清洗箱和所述第二清洗箱均连接，用于输送所述第一清洗箱中的去离子水和所述第二清洗箱中的酸性溶液，并喷洒在所述研磨台上，以清洗所述研磨台上的碱性研磨液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新昇半导体科技有限公司，未经上海新昇半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710586286.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种清除地面有毒有害物的装置
- 下一篇：一种连续滚筒式除油系统
