[发明专利]发光器件、像素界定层及其制造方法

摘要

本发明像素界定层包括第一界定层和第二界定层，所述第一界定层包括坝体，所述第二界定层包括设置在坝体顶部和侧壁/部分侧壁的金属层，位于坝体顶部的金属层表面具有纳米微结构。本发明还提供一种发光器件。本发明制作方法之一：坝体上制备第二界定层，在第二界定层上通过纳米压印制程制备表面具有纳米微结构的光阻层，再通过蚀刻制程使坝体顶部的第二界定层表面具有纳米微结构。本发明制作方法之二：通过掠入射沉积方式在基底及第一界定层上制备表面具有纳米微结构的第二界定层；通过蚀刻制程去除基底上方位于坝体之间的第二界定层。本发明像素界定层可以阻挡侧向漏光使出射光能量提高；金属层纳米微结构具有疏液特性，保证了墨水滴落的可靠性。

主权项

一种像素界定层，其特征在于，其包括第一界定层和第二界定层，所述第一界定层包括设置在基底上的坝体，所述第二界定层包括设置在坝体的顶部和至少部分侧壁上的金属层，位于坝体顶部的金属层表面具有纳米微结构。