[发明专利]取像装置及其制造方法在审
| 申请号： | 201710612541.3 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107392196A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 游国良;杨国文;黄承钧;邱宥诚 | 申请（专利权）人： | 金佶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/20 | 分类号： | G06K9/20;G06K9/00 |
| 代理公司： | 深圳市金笔知识产权代理事务所(特殊普通合伙)44297 | 代理人： | 胡清方,彭友华 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种取像装置及其制造方法，其中取像装置包括基板、光源、传感器、遮光元件、第一反射元件、透光胶体固化层以及第二反射元件，光源、传感器、遮光元件、第一反射元件以及透光胶体固化层配置在基板上，传感器位于光源旁，遮光元件位于光源与传感器之间，第一反射元件位于遮光元件与传感器之间，透光胶体固化层覆盖光源、传感器、遮光元件以及第一反射元件，第二反射元件配置在遮光元件的上方且位于光源与传感器之间。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种取像装置，其特征在于，包括：一基板；一光源，配置在所述基板上；一传感器，配置在所述基板上且位于所述光源旁；一遮光元件，配置在所述基板上且位于所述光源与所述传感器之间；一第一反射元件，配置在所述基板上且位于所述遮光元件与所述传感器之间；一透光胶体固化层，配置在所述基板上且覆盖所述传感器、所述光源、所述遮光元件以及所述第一反射元件；以及一第二反射元件，配置在所述遮光元件的上方且位于所述光源与所述传感器之间。
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