[发明专利]一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法在审
| 申请号： | 201710620922.6 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN107422611A | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 刘磊;殷履文;李永康;王溯源;王发稳;夏久龙 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京君陶专利商标代理有限公司32215 | 代理人： | 沈根水 |
| 地址： | 210016 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法，该方法包括（1）取一块ASML标准掩膜版；（2）取另一块ASML标准掩膜版；（3）使用专用4英寸GaAs圆片，校准ASML扫描式光刻机的焦平面各项参数；（4）选用4英寸GaAs圆片，表面涂盖光刻胶；（5）ASML扫描式光刻机在步骤（4）所述的GaAs圆片上分别曝光对准标记图形和第一层套刻匹配图形；（6）曝光后GaAs圆片显影，显影后干法刻蚀；去除光刻胶后,重新涂盖与步骤（4）相同的光刻胶；（7）ASML步进式光刻机在GaAs圆片上曝光第二层套刻匹配图形，实现两台设备的套刻匹配。优点1）简单易行；2）套刻匹配灵活。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 asml 不同 型号 光刻 机套 匹配 方法 | ||
【主权项】：
一种实现ASML步进式光刻机和ASML扫描式光刻机套刻匹配的方法，其特征是该方法包括如下步骤：（1）使用一块ASML标准掩膜版，该掩膜版包含用于圆片对准的标记图形；（2）使用另一块ASML标准掩膜版，该掩膜版包含用于步进式光刻机和扫描式光刻机套刻匹配的图形；（3）使用专用4英寸GaAs圆片，校准ASML扫描式光刻机的焦平面各项参数；（4）选用4英寸GaAs圆片，表面涂盖光刻胶；（5）ASML扫描式光刻机利用步骤（1）及步骤（2）中的掩膜版在步骤（4）所述的GaAs圆片上分别曝光对准标记图形和第一层套刻匹配图形；（6）曝光后GaAs圆片显影，显影后干法刻蚀；去除光刻胶后,重新涂盖与步骤（4）相同的光刻胶；（7）ASML步进式光刻机利用步骤（2）中的掩膜版在GaAs圆片上曝光第二层套刻匹配图形，显影后测试两层的套刻精度误差，软件自动补偿ASML步进式光刻机的相关参数，实现两台设备的套刻匹配。
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