[发明专利]一种利用激光校正光学系统波前分布的方法在审
| 申请号： | 201710623727.9 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN107272195A | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 赵晓杰;陶沙 | 申请（专利权）人： | 英诺激光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型的用于光学系统波前分布校正的方法。同时也可以是一种用于光学器件系统波前校正、或生成具有所需的任意波前分布的特殊光学系统的激光加工方法。该方法主要通过激光的作用，使光学器件内部形成特定的折射率空间分布，从而实现对光学系统中存在的波前畸变进行校正、或生成具有所需的任意波前分布的光学系统之目的。通过该方法处理的光学器件能有效地校正光学系统中的波前畸变，满足特定的使用需求，可用于各种光学系统，同时该方法具有速度快、计算机辅助一次成型、无需后续处理的特点，是一种全新的光学系统设计和波前畸变校正的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 激光 校正 光学系统 分布 方法 | ||
【主权项】：
一种利用激光校正光学系统波前分布的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获取待校正光学系统未校正前实际的波前分布；S2、根据S1获取的波前分布，计算用于波前校正的光学器件所需达到的折射率空间分布；S3、利用激光作用于S2所述的光学器件，在其内产生所需的折射率空间分布；S4、将S3所述的光学器件置于光学系统中，以校正原光学系统中存在的波前畸变，或得到具有所需的任意波前分布的特殊光学系统。
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