[发明专利]一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201710628677.3 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107629310B | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 唐平贵;李殿卿;冯拥军;陈廷伟;赵梦垚;马若愚 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08L23/12 | 分类号： | C08L23/12;C08K5/42;C08K5/3435 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法。本发明创新性地将紫外吸收剂与自由基捕获剂共同组装至LDHs层间，利用紫外吸收剂的紫外吸收性能阻隔紫外线对塑料的光降解，利用自由基捕获剂捕获光降解产生的活性自由基减少塑料的光氧化。由于LDHs层间的紫外吸收剂和自由基捕获剂存在协同抗光老化作用，紫外吸收剂与自由基捕获剂共插层结构LDHs的抗光老化性能明显优于紫外吸收剂单插层LDHs，克服了目前紫外吸收剂单插层LDHs抗光老化效果不佳的缺点。本发明制备方法简单、原料来源丰富、便于工业化生产的优点。所制备的超分子插层结构光稳定剂具有耐热性高、耐迁移性好、光保护性能优异等优点，可广泛应用于塑料、涂料等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子 结构 稳定剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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