[发明专利]用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台在审

专利信息
申请号: 201710628785.0 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN107393803A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 张佳;张占东 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰,武岑飞
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其包括绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于第二表面上;顶针孔,贯穿绝缘部和电极部,所述第一表面与顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于针杆一端的托盘;当顶针承载被处理的基板至所述第一表面上时,托盘的端部位于台阶上,以将顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,针杆位于顶针孔中。本发明还提供了一种具有该下电极结构的干蚀刻机台。本发明在承载于绝缘部的表面上的被处理的基板出现翘曲现象时,由于托盘将顶针孔在绝缘部的表面上的开口封闭,这样周围环境中的等离子体(plasma)不会进入顶针孔内,从而避免电极部被电弧击伤(arcing)。
搜索关键词: 用于 蚀刻 机台 电极 结构
【主权项】:
一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其特征在于,包括:绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于所述第二表面上;顶针孔,贯穿所述绝缘部和所述电极部,所述第一表面与所述顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于所述针杆一端的托盘;其中,当所述顶针承载所述被处理的基板至所述第一表面上时,所述托盘的端部位于所述台阶上,以将所述顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,所述针杆位于所述顶针孔中。
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