[发明专利]用于干蚀刻机台的下电极结构及干蚀刻机台在审
申请号: | 201710628785.0 | 申请日: | 2017-07-28 |
公开(公告)号: | CN107393803A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 张佳;张占东 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人: | 孙伟峰,武岑飞 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其包括绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于第二表面上;顶针孔,贯穿绝缘部和电极部,所述第一表面与顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于针杆一端的托盘;当顶针承载被处理的基板至所述第一表面上时,托盘的端部位于台阶上,以将顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,针杆位于顶针孔中。本发明还提供了一种具有该下电极结构的干蚀刻机台。本发明在承载于绝缘部的表面上的被处理的基板出现翘曲现象时,由于托盘将顶针孔在绝缘部的表面上的开口封闭,这样周围环境中的等离子体(plasma)不会进入顶针孔内,从而避免电极部被电弧击伤(arcing)。 | ||
搜索关键词: | 用于 蚀刻 机台 电极 结构 | ||
【主权项】:
一种用于干蚀刻机台的下电极结构,其特征在于,包括:绝缘部,包括相对的第一表面和第二表面;电极部,设置于所述第二表面上;顶针孔,贯穿所述绝缘部和所述电极部,所述第一表面与所述顶针孔的内表面的连接处形成台阶;顶针,包括针杆以及连接于所述针杆一端的托盘;其中,当所述顶针承载所述被处理的基板至所述第一表面上时,所述托盘的端部位于所述台阶上,以将所述顶针孔的在所述第一表面上的开口封闭,所述针杆位于所述顶针孔中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710628785.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种等离子体刻蚀系统的喷淋头
- 下一篇:一种真空太阳能光电转换器件