[发明专利]掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法有效
| 申请号： | 201710631103.1 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107419218B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 林治明;王震;张新建;刘德健;李宝军;黄俊杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，该掩模版框架包括：框架主体，所述框架主体包括第一表面；设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。本发明能够提高沟槽的识别准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 框架 装置 定位 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版框架，包括：框架主体，所述框架主体包括第一表面；设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；其特征在于，在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面能够被图像采集器采集到图案，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界；每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的上过渡边沿设置有第一倒角面结构，所述第一倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面；或每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的下过渡边沿设置有第二倒角面结构，所述第二倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面；或所述沟槽的两个侧壁中至少一部分与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。
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